光電子濕法工藝(主要包括濕法刻蝕、濕法清洗)制程中使用的各種電子化工材料,是集成電路工藝制程中的關(guān)鍵性基礎(chǔ)化工材料。
不同線寬的集成電路制程工藝中必須使用不同規(guī)格的超凈高純試劑進行蝕刻和清洗,其關(guān)鍵生產(chǎn)技術(shù)包括混配技術(shù)、分離技術(shù)、純化技術(shù)以及與其生產(chǎn)相配套的分析檢驗技術(shù)、環(huán)境處理與監(jiān)測技術(shù)等、包裝技術(shù)等。
在半導體濕化學品供應商方面,市場份額主要掌握在歐美、日本、韓國等國家的企業(yè)手中,高端產(chǎn)品市場依賴進口。
在半導體濕化學品供應商方面,市場份額主要掌握在歐美、日本、韓國等國家的企業(yè)手中,包括德國巴斯夫,美國亞什蘭化學、Arch 化學,日本關(guān)東化學、三菱化學、京都化工、住友化學、和光純藥工業(yè),臺灣鑫林科技,韓國東友精細化工等,上述公司占全球市場份額的85%以上。
濕電子化學品領(lǐng)域與國外尚有較大差距,高端市場主要集中在美、日、歐等少數(shù)大廠商手中,比如在對電子化學品純度等級要求較高的半導體和平板顯示領(lǐng)域,我國內(nèi)資企業(yè)市場占有率僅達到
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